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    SXEN-2001低磷低溫化學鍍液

    2016-05-06

      SXEN-2000系列產品是我公司的主導產品。

     
      SXEN-2001低磷低溫化學鍍鎳濃縮液產品簡介
    一 SXEN-2001低磷化學鍍鎳濃縮液的特點
      SXEN-2001是國內首創的低磷化學鍍液,它標志著我們已經進入了同行業的國際先進行列。眾所周知化學鍍液中的磷含量想降低到一定的范圍以下是很難的,但它擁有著其它鍍液無法比擬的特殊功能,它的硬度、耐磨度、可焊性都極其出眾,低磷鍍層的結合力更是無與倫比,SXEN-2001具有以下幾方面特點:
    1.循環壽命長,可達13-15個循環(Metal Turn Over),[循環含義為每升鍍液將全部鎳鍍出再補加到開缸時的鎳含量稱為一個循環,一個循環最少可沉積鍍層900dm2·μm];
    2.最高鍍速可達20μm/hr,鍍層孔隙率低,15μm無孔隙;
    3.鍍態硬度高,Hv在700以上,一般情況下可省略熱處理即有很高的耐磨性;
    4.極強的可焊性,是目前市場上可焊性最好的鍍層;
    5.在堿性介質中具有十分優秀的防腐蝕效果;
    6.深鍍能力、均鍍能力強,完全達到“仿型效果”;
    7.優秀的結合品質與高硬度的表面使低磷鍍層耐磨性極好;
    7.操作溫度低,75℃就可施鍍,大大節省能源;
    二 SXEN-2001系列化學鍍層的性能
    磷含量:0.5-3%(wt);           電阻率:30-60μΩ·cm;
    密度:8.6g/cm3;                  熔點:1180-1200℃;
    硬度:鍍態:Hv 700;      結合力:400MPa遠遠高于電鍍;
    熱處理后:Hv1100(68RCH);    內應力:鋼上內應力低于7MPa
    三 SXEN-2001使用方法
      本產品采用國際通用的A、B、C三種溶液,以A、B開缸,根據鎳離子濃度進行分析補加工作液的消耗組分,以A、C補加,極其方便:
    1.開缸方法
    以配制1升工作液為例
    SXEN-2001MA           10%   100ml
    SXEN-2001MB           20%   200ml
    剩余量為去離子水(電導率低于5μs/cm)和氨水(調整pH值7-7.5)
    溫度:70-75℃               裝載量:0.5-1.5dm2/L
      具體方法為,先計算體積并在槽內壁畫出刻度,用去離子水加滿一半體積,再加入10%的A和20%的B,用去離子水加至刻度線下方一點,再調節pH值至刻度線,加溫到70℃即可按工藝要求施鍍。
    2.鍍液的分析及補加
      工作液的標準濃度為6.0克/升,Ni2+濃度的分析方法:用移液管取5ml工作液置于250ml的錐形瓶中,加入50ml去離子水,再加入10ml氨水(28%),搖勻,加入0.2克紫脲酸銨指示劑,搖勻,用0.05M的EDTA標準液進行滴定,終點為淺棕色變為淺紫色。以EDTA用量為準進行計算,方法為
    (6-EDTA用量×0.59)×16×開缸體積(L)=補加A量=補加C量(ml)
    也可查下表
    Ni2分析量
    補加A量
    ml/L
    補加C量
    ml/L
    Ni2活度(%)
    EDTA用量(ml)
    Ni2濃度(g/L)
    100
    10.2
    6.0
    0
    0
    95
    9.7
    5.7
    4.8
    4.8
    90
    9.2
    5.4
    9.6
    9.6
    85
    8.7
    5.1
    14.4
    14.4
    80
    8.2
    4.8
    19.2
    19.2
    75
    7.7
    4.5
    24
    24
    70
    7.2
    4.2
    28.8
    28.8